PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS USING POSITIVE PHOTORESIST CONTAINING UNBLEACHABLE LIGHT ABSORBING AGENT.,申请号EP19850904900-传众专利搜索

发明名称	PHOTOLITHOGRAPHY PROCESS USING POSITIVE PHOTORESIST CONTAINING UNBLEACHABLE LIGHT ABSORBING AGENT.
摘要
申请公布号	EP0193603(A4)	申请公布日期	1988.04.06
申请号	EP19850904900	申请日期	1985.09.12
申请人	ADVANCED MICRO DEVICES, INC.	发明人	KNIGHT, COLIN, W., T.;ARNOLD, WILLIAM, H., III;BROWN, ANDREW, VICTOR
分类号	G03C1/00;G03F7/004;G03F7/09;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/30;(IPC1-7):G03C5/16;G03C5/00	主分类号	G03C1/00
代理机构		代理人
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