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发明名称 METHOD OF APPLYING AND DIFFUSING IMPURITY IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPS6373621(A) 申请公布日期 1988.04.04
申请号 JP19860220241 申请日期 1986.09.17
申请人 MITSUBISHI ELECTRIC CORP 发明人 NAKAJIMA TAKASHI
分类号 H01L21/225 主分类号 H01L21/225
代理机构 代理人
主权项
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