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发明名称
MASK SPUTTERING METHOD
摘要
申请公布号
JPS6369962(A)
申请公布日期
1988.03.30
申请号
JP19860212487
申请日期
1986.09.09
申请人
FUJI PHOTO FILM CO LTD
发明人
SHIMIZU OSAMU
分类号
H01L21/31;C23C14/04;H01L21/203
主分类号
H01L21/31
代理机构
代理人
主权项
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