| 发明名称 |
METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING LOW RESISTANCE NON-ALLOYED CONTACT LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0226106(A3) |
申请公布日期 |
1988.03.23 |
| 申请号 |
EP19860116617 |
申请日期 |
1986.11.29 |
| 申请人 |
ALLIED CORPORATION |
发明人 |
AINA, OLALEYE ADETORO ALLIED CORPORATION;LAKHANI, AMIR ALIMOHAMED ALLIED CORPORATION |
| 分类号 |
H01L21/28;H01L21/265;H01L21/285;H01L21/338;H01L29/812;H01S5/00;(IPC1-7):H01L21/265 |
主分类号 |
H01L21/28 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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