| 发明名称 |
DIELETTRICO MEDIANTE DEPOSIZIONI IN PROCESSO PER LA REALIZZAZIONE DI VUOTO DI METALLI, E RELATIVO FORI METALLIZZATI IN UN SUBSTRATO PRODOTTO OTTENUTO. |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IT8819830(D0) |
申请公布日期 |
1988.03.18 |
| 申请号 |
IT19880019830 |
申请日期 |
1988.03.18 |
| 申请人 |
SIEMENS TELECOMUNICAZIONI S.P.A. |
发明人 |
GIAMPIERO FERRARIS;TARCISIO CAGNIN |
| 分类号 |
H05K1/16;H05K3/06;H05K3/10;H05K3/38;H05K3/40;H05K3/42;(IPC1-7):H05K/ |
主分类号 |
H05K1/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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