发明名称 ELEKTROLYTISCHE KUPFERPLATTIERUNGSLOESUNGEN UND VERFAHREN FUER IHRE ANWENDUNG.
摘要
申请公布号 AT32611(T) 申请公布日期 1988.03.15
申请号 AT19830109814T 申请日期 1983.09.30
申请人 LEARONAL, INC. 发明人 HOUMAN, JOHN
分类号 C07G99/00;C25D3/38;(IPC1-7):C25D3/38;C07G17/00 主分类号 C07G99/00
代理机构 代理人
主权项
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