| 主权项 |
1.一种酯化合物,其为,下列一般式(1)所示之物, (式中,R1为氢原子、甲基或CH2CO2R3;R2为氢原子、甲 基或CO2R3;R3为碳数1至15之直链状、支链状或环状 烷基;k为0或1;Z为与键结之碳原子形成单环或交联 环之碳数2至20可含有杂原子之2价烃基;m为0或1,n为 0.1.2或3,且2m+n=2或3)。2.一种重量平均分子量1,000至 500,000之高分子化合物,其特征为,含有以申请专利 范围第1项之一般式(1)所示酯化合物为原料之下列 一般式(1a-1)及/或(1a-2)所示重覆单位, (式中,R1为氢原子、甲基或CH2CO2R3;R2为氢原子、甲 基或CO2R3;R3为碳数1至15之直链状、支链状或环状 烷基:k为0或1;Z为与键结之碳原子形成单环或交联 环之碳数2至20可含有杂原子之2价烃基;m为0或1,n为 0.1.2或3,且2m+n=2或3)。3.如申请专利范围第2项之高 分子化合物,其中,含有至少1个下列式(2a)至(10a)所 示重覆单位, (式中,R1.R2.k同上述;R4为氢原子、碳数1至15含有羧 基或羟基之1价烃基;R5至R8中至少1个为碳数1至15含 有羧基或羟基之1价烃基,其余各自独立为氢原子 、碳数1至15之直链状、支链状或环状烷基;R5至R8 可相互形成环,此时R5至R8中至少1个为碳数1至15含 有羧基或羟基之2价烃基,其余各自独立为单键、 碳数1至15之直链状、支链状或环状伸烷基;R9为碳 数3至15含有-CO2-部分构造之1价烃基;R10至R13中至少 1个为碳数2至15含有-CO2-部分构造之1价烃基,其余 各自独立为氢原子、碳数1至15之直链状、支链状 或环状烷基;R10至R13可相互形成环,此时R10至R13中 至少1个为碳数1至15含有-CO2-部分构造之2价烃基, 其余各自独立为单键、碳数1至15之直链状、支链 状或环状伸烷基;R14为碳数7至15之多环式烃基或含 有多环式烃基之烷基;R15为酸不安定基;X为-CH2-或-O -;Y为-O-或-(NR16)-、R16为氢原子、碳数1至15之直链 状、支链状或环状烷基)。4.一种高分子化合物之 制造方法,其特征为,对一般式(1)之酯化合物与含 有碳-碳双键之其他化合物进行自由基聚合,阴离 子聚合或配位聚合反应,其中, 自由基聚合反应之反应条件为,(a)以苯等烃类、四 氢喃等醚类、乙醇等醇类或甲基异丁基酮等酮 类为溶剂,(b)以2,2′-偶氮双异丁等偶氮化合物, 或过氧化苯醯、过氧化月桂醯等过氧化物作为聚 合引发剂,(c)反应温度保持于0至100℃,(d)反应时间 为0.5小时至48小时; 阴离子聚合反应之反应条件为,(a)以苯等烃类、四 氢喃等醚类或液体氨为溶剂,(b)以钠、钾等金属 或m-丁基锂、sec-丁基锂等烷基金属或羰游基、格 利雅反应剂为聚合引发剂,(c)反应温度保持于-78℃ 至0℃,(d)反应时间为0.5小时至48小时、(e)以甲醇等 质子供给性化合物、碘化甲酯等卤化物、其他求 电子性物质为停止剂; 配位聚合之反应条件为,(a)以n-庚烷、甲苯等烃类 为溶剂,(b)以钛等过渡金属及烷基铝所形成之齐格 勒-纳塔触媒、附载铬及镍化合物之金属氧化物的 菲利普触媒、以钨及铼混合触媒为代表之烯烃-歧 化混合触媒等为触媒,(c)反应温度保持于0℃至100 ℃,(d)反应时间为0.5小时至48小时者。5.一种光阻 材料,其特征为,含有如申请专利范围第2或3项之高 分子化合物。6.一种光阻材料,其特征为,含有如申 请专利范围第2或3项之高分子化合物及能感应高 能量线或电子线而产酸之化合物及有机溶剂。7. 一种图型之形成方法,其特征系包含,将如申请专 利范围第5或6项之光阻材料涂布于基板上之步骤 及,加热处理后介有照相图罩以高能量线或电子线 曝光之步骤及,于必要时之加热处理后利用显像液 显像之步骤。图式简单说明: [图1]合成例1-1所得之Monomerl的1H-NMR光谱(CDC13.270MHz) 。 |
