发明名称 化学放大正型抗蚀剂组成物
摘要 一种化学放大正型抗蚀刻组成物,其具有优良的平衡性质诸如解析度、截面、灵敏度、抗乾蚀刻、附着力及其类似的性质,其包含具有下列聚合单位(A)、(B)及(C)之树脂及酸产生剂。(A):至少一种脂环酯之聚合单位,其系选自于下列化学式(Ia)及(Ib)所表示之聚合单位:(B):至少一种聚合单位,其系选自下列化学式(II)所示之(甲基)丙烯酸3-羟基-1-三环癸酯的聚合单位、下列化学式(III)所表示之单位及衍生自不饱和二羧酸酐之单位组合的聚合单位,该酐选自马来酐及衣康酐,及下列化学式(IV)所表示之(α)β-(甲基)丙烯醯氧基-γ-丁内酯的聚合单位:(C):-种聚合单位,其可藉由与酸作用裂解部分基团而变成可溶于强硷中。
申请公布号 TW507116 申请公布日期 2002.10.21
申请号 TW090107875 申请日期 2001.04.02
申请人 住友化学工业股份有限公司 发明人 上谷保则;山田爱理;宫芳子;高田佳幸
分类号 G03F7/039;G03F7/004 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼;何秋远 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种化学放大正型抗蚀刻组成物,其包括具有下 列聚合单位(A)、(B)及(C)之树脂,及其自身不溶于强 硷,但是可藉由与酸作用变得可溶于强硷中;及一 酸产生剂: (A):至少一种脂环内酯聚合单位,其系选自于下列 化学式(Ia)及(Ib)所表示之聚合单位: 其中,每个R1及R2各别独立地代表氢或甲基,n为数字 1至3, (B):至少一种聚合单位,其系选自于下列化学式(II) 所表示之(甲基)丙烯酸3-羟基-1-三环癸酯的聚合单 位、下列化学式(III)所表示之单位及衍生自不饱 和二羧酸酐之单位组合的聚合的聚合单位,其中该 酐选白马来酐及衣康酐,及下列化学式(IV)一所表 示之()-(甲基)丙烯醯基氧基--丁内酯的聚合 单位, 其中,R3及R7为氢或甲基;R4为氢或羟基;每个R5及R6各 别独立地代表氢、具有1至3个碳原子之烷基、具 有1至3个碳之烃烷基、羧基、氰基或-COOR7基团;其 中R7为醇残基;或R5及R6一起形成-C(=O)OC(=O)-所表示 羧酸酐残基, (C):一种聚合单位,其可藉由与酸作用裂解部分基 团而变成可溶于强硷中。2.如申请专利范围第1项 之化学放大正型抗蚀刻组成物,其中该可藉由与酸 作用裂解部分基团而变成可溶于强硷之聚合单位( C),其系为一种衍生自(甲基)丙烯酸2-烷基-2-三环癸 酯之聚合单位。3.如申请专利范围第2项之化学放 大正型抗蚀刻组成物,其中(甲基)丙烯酸2-烷基-2- 三环癸酯系为(甲基)丙烯酸2-烷基-2-三环癸酯。4. 如申请专利范围第1项之化学放大正型抗蚀刻组成 物,其中该树脂系利用衍生出聚合单位(A)的单体、 衍生出聚合单位(B)的单体及聚合单位(C)衍生出的 单体之共聚合制造而得;以共聚合反应中所使用的 全部单体总量为准时,其中该衍生出聚合单位(A)的 单体量系5至50莫耳%、衍生出聚合单位(B)的单体量 系10至80莫耳%及衍生出聚合单位(C)的单体量为10至 80莫耳%。5.如申请专利范围第1项之化学放大正型 抗蚀刻组成物,其进一步包括一种淬灭剂。
地址 日本