发明名称 图案测量方法、使用其之半导体装置之制造方法及图案测量装置
摘要 本发明系提供一种以高速且高精度测量图案之装置、方法等。该装置系取得包含图像资料的复数个图案HP2、HP4之图形资料,处理此等图形资料,以检测图案HP2、HP4之轮廓点的座标,在各图案间组合轮廓点对,各轮廓点对算出构成各轮廓点对之轮廓点间的距离及连结此等轮廓点之间的直线与任意的轴线之间的角度,做成所算出的上述轮廓点对之上述距离与上述角度的分布图的DAD图,抽出该DAD图的特征点A、B、B’、C、D、D’,依据此等特征点,评估图案HP2、HP4间的形状关系、图案HP2、HP4间的尺寸关系及图案HP2、HP4间的相对位置关系之至少一个。
申请公布号 TW200408034 申请公布日期 2004.05.16
申请号 TW092125928 申请日期 2003.09.19
申请人 东芝股份有限公司 发明人 三井正
分类号 H01L21/66;G01B11/00;G01B15/00 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本