发明名称 具有二环己基悬挂官能基之化学式增强高分子及含有该高分子之阻剂组合物
摘要 本发明系关于具有二环己基悬挂官能基之化学增强高分子、制备该高分子之制程及包含该高分子之阻剂组合物。特定言之,本发明系关于具有二环己基键结之新的(甲基)丙烯酸((meth)acrylic)或冰片烯羧酸酯(norbornenecarboxylate)化合物、制备该化合物之制程、以该化合物来合成一化学式增强高分子、及包含该高分子具有高解析度与优良抗蚀刻性之用于ArF之正光阻组合物。091136589p01.bmp
申请公布号 TW200407299 申请公布日期 2004.05.16
申请号 TW091136589 申请日期 2002.12.18
申请人 东进半化学股份有限公司 发明人 孙银卿;姜在贤;金德倍;金宰贤
分类号 C07C69/653;G03F7/027 主分类号 C07C69/653
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 韩国