FORMATION OF WSI2 FILM,申请号JP19860196099-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	FORMATION OF WSI2 FILM
摘要
申请公布号	JPS6350458(A)	申请公布日期	1988.03.03
申请号	JP19860196099	申请日期	1986.08.20
申请人	NEC CORP	发明人	TANIGAWA AKIO;OKABAYASHI HIDEKAZU
分类号	C23C14/06;C23C14/24	主分类号	C23C14/06
代理机构		代理人
主权项
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