| 主权项 |
1.一种制造具有复数个凹部之基体之方法,该基体 系用于制造具有作为凸镜片的复数个微镜片之一 微镜片基体,彼等复数个微镜片系利用该复数个凹 部而形成,该方法包含以下步骤: 制备一基底基体,该基底基体具有二个主要表面; 在该基底基体之该等二个主要表面之一上形成至 少一层; 在该至少一层中形成复数个开口以形成一遮罩,该 复数个开口之每一开口之该直径在0.8至20m范围 内; 藉由让具有上面形成有该复数个开口的该遮罩之 该基底基体接受一蚀刻程序,以在该基底基体形成 该复数个凹部,而使得该等已形成凹部之每一凹部 皆具有一实质上为椭圆的形状;以及 从该基底基体移除该遮罩, 其中将该复数个已形成凹部以一碎格子(houndstooth) 方式配置于该基底基体上, 其中,将该等已形成凹部中每一凹部在垂直于该基 底基体的该主要表面之一方向上之该深度定义为D (m),而藉由将该等已形成凹部之每一凹部在其一 长轴方向上之该长度与该等已形成开口之每一开 口的该直径之间的差除以二而获得之値定义为S( m)时,D与S系满足以下关系式:0.90≦S/D≦1.40;以及 其中,当从该基底基体之该一主要表面上方观看时 ,在形成该复数个凹部之一可用区域中所有该复数 个已形成凹部所占据之面积相对于该整个可用面 积之比率系90%或更高。 2.如请求项1之方法,其中在该开口形成步骤中系形 成该复数个开口,使得当从该基体之该一主要表面 上方观看时,一第一行凹部系相对于与该第一行凹 部相邻之一第二行凹部而偏移,该偏移相当于该复 数个凹部之每一凹部在其短轴方向上之一半间距 。 3.如请求项1之方法,其中该至少一层形成步骤包括 以下步骤: 在该基底基体之该一主要表面上形成包含作为一 主要材料的铬之一第一层;以及 在该第一层上形成包含作为一主要材料的氧化铬 之一第二层。 4.如请求项1之方法,其中该开口形成步骤包括藉由 雷射光束来照射上面已形成该至少一层之该基底 基体之步骤。 5.如请求项1之方法,其中在该凹部形成步骤中,系 藉由将一含有二氟化氢铵的液体用作一蚀刻剂来 实施该蚀刻程序。 6.如请求项4之方法,其中在该基底基体制备步骤中 ,系使用包含一具有透明度的材料之该基底基体。 7.如请求项1之方法,其中,将实质上为椭圆形之该 等已形成凹部之每一凹部在其短轴方向上之长度 定义为L1(m),而该等已形成凹部之每一凹部在其 长轴方向上之长度定义为L2(m)时,L1与L2满足以下 关系式:0.10≦L1/L2≦0.99。 8.一种基体,其具有复数个使用如请求项1之方法制 造的凹部。 9.一种微镜片基体,其使用如请求项8之具有复数个 凹部之基体而制得,其中该微镜片基体具有二个主 要表面,而复数个微镜片系形成于该微镜片基体之 一主要表面上。 10.如请求项9之微镜片基体,其中该复数个微镜片 系形成于该微镜片基体之该一主要表面上,而使得 当从该微镜片基体之该一主要表面上方观看时,一 第一行微镜片系相对于与该第一行微镜片相邻之 一第二行微镜片而偏移,该偏移相当于该复数个微 镜片之每一微镜片在其一短轴方向上之一半间距 。 11.如请求项9之微镜片基体,其中将实质上为椭圆 形之该等复数个微镜片之每一微镜片在其短轴方 向上之长度定义为L1(m),而该等复数个微镜片之 每一微镜片在其长轴方向上之长度定义为L2(m) 时,L1与L2满足以下关系式:0.10≦L1/L2≦0.99。 12.如请求项9之微镜片基体,其中该微镜片基体系 包含一具有透明度之材料。 13.一种透射屏,其包含: 一菲涅耳镜片,在其一主要表面上系形成有复数个 同心棱镜,该菲涅耳镜片之该一主要表面构成其一 发射表面;以及 如请求项9之微镜片基体,该微镜片基体系配置于 该菲涅耳镜片之该发射表面之该侧上,而使得其一 主要表面面对该菲涅耳镜片。 14.一种后投射器,其包含如请求项13之透射屏。 图式简单说明: 图1系示意性显示在依据本发明之一项较佳具体实 施例中之一微镜片基体之一纵向断面图。 图2系图1所示镜片基体之一平面图。 图3系示意性显示在依据本发明之一项较佳具体实 施例中具有图1所示微镜片基体之一透射屏之一纵 向断面图。 图4系示意性显示具有复数个本发明之凹部的基体 之一纵向断面图。 图5A至D系示意性显示制造具有图4所示复数个本发 明之凹部的基体之方法之一纵向断面图。 图6A至G系示意性显示制造图1所示微镜片基体之一 方法之一范例的一纵向断面图。 图7系示意性显示应用本发明之透射屏之一后投射 器组态之一图式。 |
