| 主权项 |
1.一种如下式之偏端霉素衍生物之制法, 其中,R为溴原子或氯原子;或其医药可接受性盐类; 该制法包含: a)在硷性环境下,将2-氨基-乙基胍与下式之化合物 反应: 其中,X为羟基或适当的离去基团,以便获得下式之 化合物: b)将式(III)之硝基衍生物还原为相对应之氨基衍生 物,以及接着在硷性环境下将所得之氨基衍生物与 上述之式(II)化合物反应,以便获得下式之化合物: c)将式(IV)之硝基衍生物还原为相对应之氨基衍生 物,以及接着在适当缩合剂之存在下与硷性环境下 将所得之氨基衍生物与下式之化合物反应: 其中,R为溴原子或氯原子;以便获得式(I)之化合物, 以及可选择将其转换成其医药可接受性盐类。 2.如申请专利范围第1项之式(I)化合物或其医药可 接受性盐类之制法,其中,R为溴原子。 3.如申请专利范围第1项之制法,其中,自a)到c)之步 骤系在一处进行,而不需要分离任何反应中间产物 。 4.如申请专利范围第1项之制法,其中,在步骤a),2-氨 基-乙基胍系以其二氢氯化物盐类之形式。 5.如申请专利范围第1项之制法,其中,在步骤a)之式 (II)化合物里,X为羟基或选自溴、氯、2,4,5-三氯苯 氧、2,4-二硝基苯氧、琥珀醯亚胺-N-氧基或咪唑基 之基团。 6.如申请专利范围第5项之制法,其中,X为溴原子或 氯原子。 7.如申请专利范围第1项之制法,其中,b)或c)下的还 原步骤系在适当还原剂包括次磷酸钠、联氨、硫 化物、聚硫化物的存在下,或是作为催化氢化反应 来进行。 8.如申请专利范围第7项之制法,其中,还原步骤b)或 c)系以存在有钯或铂氢化触媒之催化氢化反应来 进行。 9.如申请专利范围第1项之制法,其中,在步骤c)里, 所得之氨基衍生物与式(V)化合物之间的反应系在 存在有选自由N,N'-二环己基氰胺(DCC)或(N'-(3-二甲 基氨基丙基)-N-乙基氰胺)氢氯化物(EDC)所组成之族 群的适当缩合剂下而进行。 10.如申请专利范围第1项之制法,其中,任何在硷性 环境下进行的反应系在存在有适当之无机或有机 硷下而进行。 11.如申请专利范围第10项之制法,其中,硷系选自氢 氧化钠或氢氧化钾、碳酸盐或二碳酸盐、三乙胺 、乙基二异丙胺或啶。 12.如申请专利范围第1项之制法,其中,本制法之自a )到c)的反应步骤系各自独立地在选自由二恶烷、 四氢喃、二甲基亚、二甲基甲醯胺、水或其 混合物所组成之族群的适当反应溶剂的存在下而 进行。 13.如申请专利范围第12项之制法,其中,反应溶剂系 选自二恶烷、四氢喃、水或其混合物。 14.如申请专利范围第1项之制法,其中,式(I)化合物 之医药可接受性盐类系以医药可接受性酸包括氢 氯酸、氢溴酸、硫酸、硝酸、醋酸、三氟醋酸、 丙酸、丁二酸、丙二酸、柠檬酸、酒石酸、甲磺 酸及对甲苯磺酸的酸加成盐类(acid addition salts)。 15.一种如下式(IV)之化合物: |
