| 发明名称 |
Method and device for forming a layer by a chemical plasma process. |
| 摘要 |
<p>Es wird ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Ausbilden von einer Schicht einer Fläche eines Substrats durch plasmachemischen Prozeß vorgeschlagen. Dabei wird die Fläche parallel zu dem elektrischen Feld ausgerichtet, das für den plasmachemischen Prozeß erforderlich ist. Ferner strömt das hierzu benötigte Gas unmittelbar auf die Fläche.</p> |
| 申请公布号 |
EP0257620(A2) |
申请公布日期 |
1988.03.02 |
| 申请号 |
EP19870112323 |
申请日期 |
1987.08.25 |
| 申请人 |
NUKEM GMBH |
发明人 |
VON CAMPE, HILMAR;LIEDTKE, DIETMAR;SCHUM, BERTHOLD;WORNER, JORG |
| 分类号 |
C23C16/50;C23C16/509;H05H1/46 |
主分类号 |
C23C16/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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