| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiter-Lithographie mit mindestens einem optischen Element (8), wobei mindestens ein Mittel zur mechanischen Aktuierung des optischen Elementes (8) vorhanden ist und wobei das Mittel zur mechanischen Aktuierung als Fluidaktuator (100) ausgebildet ist, welcher geeignet ist, einen Fluidstrom auf einen Bereich des optischen Elementes (8) zu lenken. |
