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发明名称
WASHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER
摘要
申请公布号
JPS6327025(A)
申请公布日期
1988.02.04
申请号
JP19860170489
申请日期
1986.07.18
申请人
NEC KANSAI LTD
发明人
IKEDA HIROYUKI
分类号
H01L21/304;B08B3/00;B08B9/42
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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