首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 METHOD FOR MAKING OHMIC CONTACT, FAVOURABLY FOR APPLICATING THIS ON COMPOUND SEMICONDUCTORS
摘要
申请公布号 HU194444(B) 申请公布日期 1988.01.28
申请号 HU19850000601 申请日期 1985.02.19
申请人 MTA MUESZAKI FIZIKAI KUTATO INTEZETE,HU 发明人 KOVACS,BALAZS,HU;MOJZES,IMRE,HU;NEMETHNE SALLAY,MARGIT,HU;VERESEGYHAZI,ROBERT,HU;GERASZIMENKO,NYIKOLAJ NY.,SU;VASZILJEV,SZERGEJ V.,SU
分类号 H01L21/268;(IPC1-7):H01L21/268 主分类号 H01L21/268
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com