发明名称 HITZEBESTAENDIGE, POSITIV-ARBEITENDE PHOTORESISTZUSAMMENSETZUNG, VERFAHREN ZU IHRER HERSTELLUNG UND IHRE VERWENDUNG
摘要
申请公布号 DE3723411(A1) 申请公布日期 1988.01.28
申请号 DE19873723411 申请日期 1987.07.15
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO.,LTD. 发明人 ASAUMI,SHINGO;KOHARA,HIDEKATSU;TANAKA,HATSUYUKI;NAKAYAMA,TOSHIMASA
分类号 G03C1/72;C08G8/08;G03F7/023;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/10;G03F7/08 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
主权项
地址