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发明名称 PROCESS OF MAKING DUAL WELL CMOS SEMICONDUCTOR STRUCTURE
摘要
申请公布号 EP0178440(A3) 申请公布日期 1988.01.27
申请号 EP19850111088 申请日期 1985.09.03
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 KINNEY, WAYNE IRVING;KOBURGER, CHARLES WILLIAM;LASKY, JEROME BRETT;NESBIT, LARRY ALAN;WHITE, FRANCIS ROGER;TROUTMAN, RONALD ROY
分类号 H01L27/08;H01L21/033;H01L21/76;H01L21/762;H01L21/8238;H01L27/092;H01L29/06;(IPC1-7):H01L21/82;H01L21/00 主分类号 H01L27/08
代理机构 代理人
主权项
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