| 发明名称 |
METHOD OF FORMING BY PROJECTION AN INTEGRATED CIRCUIT PATTERN ON A SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0121412(A3) |
申请公布日期 |
1988.01.20 |
| 申请号 |
EP19840302124 |
申请日期 |
1984.03.28 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA |
发明人 |
GOTOU, MINEO;SANO, SHUNICHI |
| 分类号 |
G03F7/20;H01J37/304;H01J37/317;(IPC1-7):G03B41/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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