发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD AND APPARATUS FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE
摘要
申请公布号 EP0210631(A3) 申请公布日期 1988.01.07
申请号 EP19860110390 申请日期 1986.07.28
申请人 ADVANTEST CORPORATION 发明人 NIIJIMA, HIRONOBU
分类号 H01L21/30;H01J37/302;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/317;G03F7/20;H01J37/304 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
主权项
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