| 摘要 |
<p>Schablone zum Herstellen von Schriftmustern, insbesondere Blindtext-Schriftmustern, im Auflichtkopierverfahren nach einer Schriftvorlage (20) mit vorgegebener Schrifthöhe, wobei wenigstens ein glasklare, flächiger Träger (1) vorgesehen ist, auf dem wenigstens eine streifenförmige, undurchsichtige Abdeckung (3) angeordnet ist, die an wenigstens einer ihrer Längskanten (5) mit gegenüber einer Basislinie (4) in der Länge unregelmässigen Abstufungen versehen ist, wobei die Breite der Abstufungen dem Zeilenabstand der Schrittvorlage (20) entspricht.</p> |
