发明名称 表面声波沟槽谐振器的制作工艺
摘要 本发明的要点在于对制作SAW器件的光刻、套刻和镀膜的工艺过程中,采用了去离子水、橡皮泥球、通入纯氧和烘烤的步骤,这就可以减少了紫外线在掩膜板与基片界面上的光反射和光折射,使得掩模版与基片得到良好的支撑和吻合,提高了除气去污的能力,从而提高了光刻分辨率、套刻的精度,保证了镀膜的质量。
申请公布号 CN85100717B 申请公布日期 1987.12.09
申请号 CN85100717 申请日期 1985.04.01
申请人 中国科学院声学研究所 发明人 周先明
分类号 H03H3/08 主分类号 H03H3/08
代理机构 中国科学院声学研究所专利办公室 代理人 刘文意
主权项 1、一种制作SAW器件的制作工艺,其特征在于采用在基片和掩模版中间夹有去离子水,橡胶泥作基片底部的软支撑,在初抽真空时通入高纯氧和烧烤的工艺过程。
地址 北京市海淀区中关村路5号