发明名称 | 表面声波沟槽谐振器的制作工艺 | ||
摘要 | 本发明的要点在于对制作SAW器件的光刻、套刻和镀膜的工艺过程中,采用了去离子水、橡皮泥球、通入纯氧和烘烤的步骤,这就可以减少了紫外线在掩膜板与基片界面上的光反射和光折射,使得掩模版与基片得到良好的支撑和吻合,提高了除气去污的能力,从而提高了光刻分辨率、套刻的精度,保证了镀膜的质量。 | ||
申请公布号 | CN85100717B | 申请公布日期 | 1987.12.09 |
申请号 | CN85100717 | 申请日期 | 1985.04.01 |
申请人 | 中国科学院声学研究所 | 发明人 | 周先明 |
分类号 | H03H3/08 | 主分类号 | H03H3/08 |
代理机构 | 中国科学院声学研究所专利办公室 | 代理人 | 刘文意 |
主权项 | 1、一种制作SAW器件的制作工艺,其特征在于采用在基片和掩模版中间夹有去离子水,橡胶泥作基片底部的软支撑,在初抽真空时通入高纯氧和烧烤的工艺过程。 | ||
地址 | 北京市海淀区中关村路5号 |