高均匀膜层镀膜装置

摘要

本装置能在凸凹平三种基片上涂高均匀膜层，其摩擦轨道(28或28a)由一对不具轴对称的面对称曲面构成。工件夹具(35)距蒸发源(15或19)最近的摆动极值角大于距蒸发源(15或19)最远的摆动极值角；或在摩擦轨道(28)下方的镀膜室底盘(8)上同时装上一个可调可折可卸的空间遮挡片载台装置(48)。且操作简单、使用方便、重复性高，生产效率是现有技术的1至4倍。既能显著提高光学(或电子)元件及整机的质量，又能降低其成本。

主权项

1、用于基片涂膜，特别是在基片上涂高均匀膜层的镀膜装置，它的蒸发源(15或19)平行并置于被动轮(32)下方，在被动轮(32)上方(或下方)装有一个摩擦轨道(28或28a)，工件夹具(35)上装有一个摩擦轮(40)，摩擦轮(40)在摩擦轨道(28或28a)上滚动，其特征在于：(1)摩擦轨道(28或28a)至少由一对不具轴对称的面对称曲面构成，工件夹具(35)距蒸发源(15或19)最近的摆动极值角大于距蒸发源(15或19)最远的摆动极值角。(2)或在蒸发源(15或19)正前方，摩擦轨道(28)，被动轮(32)和工件夹具(35)下方的镀膜室底盘(8)上同时装有一个可调可折可卸的空间遮挡片载台装置(48)。