| 发明名称 |
APPARATUS FOR SUBJECTING SUBSTRATE TO PLASMA TREATMENT IN PLASMA DISCHARGE EXCITED BY RADIO FREQUENCY EXCITATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS62282434(A) |
申请公布日期 |
1987.12.08 |
| 申请号 |
JP19870047902 |
申请日期 |
1987.03.04 |
| 申请人 |
LEYBOLD HERAEUS GMBH |
发明人 |
IERUKU KIIZAA;MIHIYAERU ZERUSHIYOTSUPU;MIHIYAERU GAISURAA |
| 分类号 |
H01L21/302;B29C59/14;C23C16/02;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/3065;H05H1/46 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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