发明名称 METHOD OF SELECTIVE NON-ELECTROLYTIC PLATING OF APERTURE IN VLSI DEVICE
摘要
申请公布号 JPS62271454(A) 申请公布日期 1987.11.25
申请号 JP19870046939 申请日期 1987.03.03
申请人 AMERICAN TELEPH & TELEGR CO <ATT> 发明人 JIYOOJI II JIYOOJIU;GARII NIKORASU PORI
分类号 H01L21/3205;C23C18/18;C23C18/32;H01L21/288;H01L21/768;H01L23/522 主分类号 H01L21/3205
代理机构 代理人
主权项
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