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发明名称 POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COMPOSITIONS
摘要
申请公布号 EP0095388(B1) 申请公布日期 1987.11.19
申请号 EP19830303026 申请日期 1983.05.25
申请人 SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED 发明人 HANABATA, MAKOTO;FURUTA, AKIHIRO;YASUI, SEIMEI;TANAKA, KUNIHIKO
分类号 G03F7/022;G03F7/023;G03F7/032;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/08 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
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