X-RAY LITHOGRAPHIC SYSTEM, IN PARTICULAR GAS CONTROL FOR THE SAME, AND METHOD FOR FABRICATING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE,申请号EP19850201909-传众专利搜索

发明名称	X-RAY LITHOGRAPHIC SYSTEM, IN PARTICULAR GAS CONTROL FOR THE SAME, AND METHOD FOR FABRICATING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号	EP0182443(A3)	申请公布日期	1987.10.28
申请号	EP19850201909	申请日期	1985.11.19
申请人	MICRONIX CORPORATION	发明人	NOVAK, THOMAS W.
分类号	H01L21/027;G03F7/20;(IPC1-7):G03B41/00	主分类号	H01L21/027
代理机构		代理人
主权项
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