| 发明名称 |
PROCEDIMENTO PER LA REALIZZAZIONE DI RESISTORI INTEGRATI A FILM SOTTILE CON DOPPIO STRATO RESISTIVO, MEDIANTE EROSIONE IONICA |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
IT1179418(B) |
申请公布日期 |
1987.09.16 |
| 申请号 |
IT19840048600 |
申请日期 |
1984.07.20 |
| 申请人 |
SELENIA INDUSTRIE ELETTRONICHE ASSOCIATE SPA |
发明人 |
MISIANO CARLO;SIMONETTI ENRICO |
| 分类号 |
H01C17/00;H01L21/70;(IPC1-7):H01C/ |
主分类号 |
H01C17/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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