METHOD FOR CREATING A DESIGN IN RELIEF IN A HARD SMOOTH SUBSTRATE AND APPARATUS FOR USE IN THE METHOD.

摘要

Procédé permettant d'obtenir par attaque à l'acide ou par sablage des motifs décoratifs sur la surface lisse de substrats durs tels que du verre, de la céramique, des matières plastiques, du marbre, du granit ou d'autres pierres. Une photoréserve à film sec, de préférence un masque de soudage, est appliquée sur la surface lisse sans adjonction de chaleur. Le motif décoratif est placé sur le film sec en exposant ce film sec à une lumière ulatraviolette à travers un négatif du motif pour déplacer ce dernier sur la surface de la photoréserve. Le film sec est ensuite développé pour en éliminer une partie. La surface lisse subit ensuite une attaque à l'acide ou un traitement de sablage, la partie du film sec restant sur la surface lisse servant à protéger cette partie de la surface contre l'attaque à l'acide ou l'effet du sablage. Est également prévu un dispositif permettant d'appliquer la photoréserve à film sec sur le substrat.