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发明名称 PROCEDURE FOR THE MANUFACTURING OF DOUBLE LAYER RESISTIVE THIN FILM INTEGRATED RESISTORS THROUGH ION EROSION
摘要
申请公布号 EP0175654(A3) 申请公布日期 1987.08.26
申请号 EP19850830185 申请日期 1985.07.17
申请人 SELENIA INDUSTRIE ELETTRONICHE ASSOCIATE S.P.A. 发明人 MISIANO, CARLO;SIMONETTI, ENRICO
分类号 H01C17/00;H01L21/70;(IPC1-7):H01L21/70;H01C17/24 主分类号 H01C17/00
代理机构 代理人
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