CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD FOR THE THIN FILM OF SEMICONDUCTOR,申请号EP19860107382-传众专利搜索

发明名称	CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD FOR THE THIN FILM OF SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号	EP0203616(A3)	申请公布日期	1987.08.19
申请号	EP19860107382	申请日期	1986.05.30
申请人	THE FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD.	发明人	KOJIMA, SEIJI;IKEDA, MASAKIYO;KIKUCHI, HIROSHI;KASHIWAYANAGI, YUZO
分类号	C30B25/12;C23C16/458;C30B25/02;C30B25/16;H01L21/205;(IPC1-7):C23C16/44	主分类号	C30B25/12
代理机构		代理人
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