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发明名称 PROCESS FOR PLANARIZING THE SURFACE OF A SEMICONDUCTOR DEVICE USING SILICON NITRIDE AS AN INSULATING MATERIAL
摘要
申请公布号 EP0216425(A3) 申请公布日期 1987.08.05
申请号 EP19860201608 申请日期 1986.09.17
申请人 RTC-COMPELEC;N.V. PHILIPS' GLOEILAMPENFABRIEKEN 发明人 FABIEN, RAYMOND;DECROUEN, JEAN-MICHEL
分类号 H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/3105;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/31 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
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