| 发明名称 | 制备沉积膜的方法 | ||
| 摘要 | 通过把形成沉积膜的气态原料和对所说的原料具有氧化作用性质的气态卤素氧化剂分别独立地送入反应空间，由化学反应形成沉积膜的制备沉积膜的方法，包括预先把用于形成价电子控制剂的气态物质(D)在一个激活空间里形成激活产物，并且将所说的激活产物送入反应空间，以便形成掺杂的沉积膜。 | ||
| 申请公布号 | CN86108685A | 申请公布日期 | 1987.07.29 |
| 申请号 | CN86108685 | 申请日期 | 1986.12.25 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 齐藤惠志;广冈政昭;半那纯一;清水勇 |
| 分类号 | C23C16/00;C23C16/24;C23C16/44 | 主分类号 | C23C16/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 刘建国 |
| 主权项 | 1、种通过把形成沉积膜的气态原料和对所说的原料具有氧化作用性质的气态卤素氧化剂分别独立地送入反应空间，由化学反应形成沉积膜的制备沉积膜的方法，包括预先把用于形成价电子控制剂的气态物质(D)在一个激活空间里激活，形成激活产物，並且将所说的激活产物送入反应空间，以便形成掺杂的沉积膜。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||