摘要 |
PROCEDIMIENTO PARA LA PRODUCCION GALVANICA DE ELECTRODOS. CONSISTE EN APLICAR UN REVESTIMIENTO ELECTROCATALITICO, MEDIANTE DEPOSICION GALVANICA, SOBRE UN SOPORTE ELECTROCONDUCTOR, A PARTIR DE UN BAÑO DE DEPOSICION GALVANICA QUE CONTIENE PARTICULAS SUSPENDIDAS DE MATERIALES ELECTROCATALITICOS; CONTENIENDO EL BAÑO DE DEPOSICION GALVANICA DE 0,005 A 2.000 PPM DE UN COMPUESTO ADICIONAL DE ELEMENTOS PERTENECIENTES A LOS GRUPOS DE LA TABLA PERIODICA: I B, II B, III A, IV A, V A, V B, VI A, VI B Y VIII, SIENDO LOS ELECTRODOS DEL TIPO QUE COMPRENDEN: A) UN SOPORTE ELECTROCONDUCTOR; Y B) UN REVESTIMIENTO ELECTROCATALITICO DE UN METAL O ALEACION METALICA. TIENE UTILIDAD EN PROCESOS ELECTROQUIMICOS.
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