| 摘要 |
Un procédé d'enduction de substrats en mouvement constant consiste à précipiter des composés d'une phase gazeuse par décharge d'un plasma provoquée par une électrode avec une réaction chimique, un système magnétique étant agencé d'un côté du substrat afin de générer une cage magnétique qui enferme le plasma. Il s'agit de limiter l'effet du plasma et la réaction chimique au voisinage immédiat du système magnétique. A cet effet, la surface à enduire du substrat est maintenue à une distance "s1" de l'électrode, inférieure à la largeur de l'espace sombre créé dans les conditions prédéterminées dans lesquelles se déroule le processus. En outre, la cage magnétique est placée de telle sorte qu'elle traverse le substrat et est fermée au-dessus de la surface à enduire du substrat, en confinant le plasma sur la surface à enduire du substrat. |
