PROCEDE POUR FORMER UN FILM DEPOSE.

摘要

L'invention concerne un procédé pour former un film déposé sur un substrat.
Il consiste à introduire dans un espace réactionnel une matière gazeuse de départ convenant à la formation d'un film déposé et un oxydant gazeux contenant un halogène qui produit une action d'oxydation sur la matière de départ afin d'établir un contact chimique avec elle et de former ainsi un certain nombre de précurseurs dans un état oxydé qui sont ensuite utilisés comme source d'alimentation pour l'élément constitutif du film déposé sur le substrat.
Domaine d'application : fabrication de transistors à couches minces, de piles solaires, d'éléments photoconducteurs, d'éléments photovoltaïques, etc.
(CF DESSIN DANS BOPI)