| 发明名称 | 用椭圆仪监控多层介质膜的方法 | ||
| 摘要 | 一种镀制多层光学薄膜的监控方法。采用椭圆偏振光测厚仪监控，真空镀膜机镀制。该方法的特征是可以方便地确定镀制某层膜所需的参量φ值和△值，也能测知该层的实际折射率和几何厚度(或光学厚度)。它适用于单层或多层介质膜，滤光片和宽带膜，λ/4膜和非λ/4膜等，是很有前途的监控方法。 | ||
| 申请公布号 | CN85108747A | 申请公布日期 | 1987.06.17 |
| 申请号 | CN85108747 | 申请日期 | 1985.12.02 |
| 申请人 | 北京师范大学 | 发明人 | 沈繁宜;尚世弦;郑东东 |
| 分类号 | C23C14/54 | 主分类号 | C23C14/54 |
| 代理机构 | 北京师范大学专利事务所 | 代理人 | 刘守国;吴圣谷 |
| 主权项 | 1、一种镀制多层光学薄膜的监控方法，在镀膜机上安装椭圆偏振光测厚仪，欲镀制第m层时，先找出镀制该层所需的ψ值和Δ值，然后将椭圆仪置于相应位置(例如消光式椭圆仪为A值和P值)，接着开镀，当镀到所需膜厚，椭圆仪将有显示(例消光式椭圆仪表现为光点达到最暗)，然后停镀，此膜即为所需的第m层膜，其特征在于找出第m层的ψ值和Δ值，不仅要考虑该层的折射率和几何厚度，还要考虑已镀的各层膜的折射率和几何厚度以及基片的折射率，所依据的公式为<img file="85108747_IMG13.GIF" wi="251" he="64" /> | ||
| 地址 | 北京市新街口外大街北太平庄 | ||