发明名称 |
Exposure apparatus for photosensitive layered materials. |
摘要 |
Gerät zum Belichten von lichtempfindlich beschichteten Materialien, bestehend aus einer Beladevorrichtung I, einer Vereinzelungs- und Beschickungsstation II, einer Belichtungsstation III, einer Entnahme- und Sammelstation IV und einer Sammeleinrichtung V, wobei mittels des Gerätes ein vollautomatischer Verfahrensablauf des Belichtens von einem Stapel unbelichteter lichtempfindlich beschichteter Materialien zu einem Stapel bildmäßig exakt belichteter lichtempfindlich beschichteter Materialien möglich ist, wobei die Belichtung der Materialien gleichzeitig beidseitig im Kontaktverfahren exakt positioniert bei Unterdrücken von 5O - 3OO mbar erfolgt.
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申请公布号 |
EP0225457(A1) |
申请公布日期 |
1987.06.16 |
申请号 |
EP19860114734 |
申请日期 |
1986.10.23 |
申请人 |
BASF AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
ECKLE, ALBRECHT;JAEKEL, BERND;KLINSMANN, UWE, DR.;BRITSCH, HELMUT |
分类号 |
G03F9/00;G03B27/06;G03F7/20;H05K3/00;(IPC1-7):G03B27/06 |
主分类号 |
G03F9/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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