| 摘要 |
Le balayage selon un angle droit ou constant d'une cible (36) à l'aide d'un faisceau ionique à courant de haute intensité (18) est assuré en positionnant un objectif à charge spatiale (46) entre un système déflecteur de faisceau (40) et la cible (36). L'objectif à charge spatiale (46) est positionné de sorte que son foyer (60) coïncide avec le centre virtuel de déviation. L'objectif à charge spatiale (46) dirige le faisceau balayé sur des cheminements parallèles (a', b', c', d', e') de manière à maintenir un angle d'incidence constant par rapport à la pièce à usiner (36). Dans un système de déviation électrostatique (40), deux ensembles de plaques de déviation sur l'axe y (72, 74) peuvent être positionnés sur les côtés opposés des plaques de déviation sur l'axe x (70) pour obtenir un seul centre virtuel de déviation (60). Ce dispositif est utile pour effectuer une implantation ionique avec une répartition extrêmement uniforme. |
