| 发明名称 |
METHOD FOR PRODUCING A SEMICONDUCTOR DEVICE USING A CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION STEP |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0194109(A3) |
申请公布日期 |
1987.06.03 |
| 申请号 |
EP19860301440 |
申请日期 |
1986.02.28 |
| 申请人 |
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA |
发明人 |
ITO, HITOSHI;MORIYA, TAKAHIKO |
| 分类号 |
H01L21/268;H01L21/285;H01L21/3205;H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/268;H01L21/316 |
主分类号 |
H01L21/268 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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