发明名称 于磁–光学记录载体中录制资讯之方法及用以实施此方法之装置及用于实施此方法之装置中之磁–光学设录载体
摘要
申请公布号 TW066906 申请公布日期 1985.05.16
申请号 TW07214306 申请日期 1983.12.13
申请人 飞利浦电泡厂 发明人
分类号 G11B7/07 主分类号 G11B7/07
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种将资讯作成磁化区之轨迹记录于一磁一光学记录载体上之方法,该记录载体系暴露于一磁场,而资讯系由一光束记录,让光束入射于记录载体上,其强度则视所要记录之资讯而定;此方法之特点为使用二光束,该二光束系在记录载体上之二位置相邻定位,与二轨迹配合,自横着二轨迹之方向观之,让二轨迹之中心相隔至少实质上一距离n.d,其中n为整数且≧1,而d为二相邻轨迹之中心至中心距离,且同时,资讯系由一光束写入于一位置,并由另一光束洗除另一位置。2.根据上述请求专利部第1.项所述之方法,其特点为n等于l。3.根据上述请求专利部份第1.或2.项所述之方法,其特点为洗除连续相邻位置中之资讯(此等位置系位于一至少实质上与记录载体在此等位置处之移动方向相横之一直线上,而此等位置相隔一距离n.d),磁场方向不断倒反。4.根据上述请求专利部份第3.项所述之方法,其特点为该n为1,于磁场在一特定方向之一第一写入期间中,资讯系由第一光束记录于记录载体上之二相邻轨迹之第一轨迹中,同时第二轨迹由第二光束洗除,及在一第二写入期间中,在二轨迹之相同部份且磁伤方向相反时,资讯由第二光束记录于第二轨迹中,且同时第一轨迹由第一光束洗除。5.根据上述请求专利部份第4.项所述之方法,其特点为在第一写入期间中,完全记录第一轨迹及完全洗除第二轨迹,然后磁场反向,俾分别记录第二轨迹及洗除一轨迹。6.根据上述请求专利部份第5.项所述之方法,其特点为使用一记录载体,该记录载体设有二相邻轨迹,二轨迹沿螺旋径路延伸于记录载体上。7.根据上述请求专利部份第3.项所述之方法,其特点为该n为l,且于磁场在一特定方向时,资讯系由第一光束记录于记录载体之一第一位置中,同时,一第二位置由第二光束洗除,第一光束在记录载体旋转一周后到达该第二位置,及在记录载体旋转一周后,磁场之方向反向,资讯由第一光束记录于第二装置中,同时一第三位置由第二光束洗除,第一光束在记录载体旋转一周后到达该第三位置。8.根据上述请求专利部份第7.项所述之方法,其特点为在记录载体旋转一周期间,磁场反向奇数次。9.一种用于实施上述请求专利部份任一项所述方法之装具,该器具设有:用于产生一洗除信号,装置用于产生一写入信号装置,该信号视所要记录之资讯而定,用于产生一光束,装置用于产生一磁场,装置用于定置并聚焦一光束于记录载体上之一位置,及定位装置用于控制光束之强度,装置此装具之特点为:该项用于产生一光束之装置能产生一第二光束;该定位装置能走置及聚焦该二光束于记录载体上之二位置,俾与二轨迹合,二轨迹之相互中心距离至少实质上为一距离n.d;该项用于控制光束之强度之装置能控制二光束之强度,俾视写入信号而控制一光束之强度,以记录资讯于记录载体上之一位置中,同时视洗除信号而控制另一光束之强度,以洗除另一位置。
地址 荷兰
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