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发明名称 PROCESS FOR ION IMPLANTATION IN A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 EP0123926(A3) 申请公布日期 1987.05.20
申请号 EP19840103546 申请日期 1984.03.30
申请人 ITT INDUSTRIES INC. 发明人 BADAWI, MOHAMMED HANI
分类号 H01L21/265;H01L21/266;H01L29/812;(IPC1-7):H01L21/265 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
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