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发明名称 ION BEAM IMPLANT SYSTEM.
摘要 Système de formation de charge et dispositif (20) permettant d'introduire des matériaux (24) servant de source d'ions dans le vaporisateur à source d'ions (10) d'un instrument d'implantation ionique.
申请公布号 EP0221056(A1) 申请公布日期 1987.05.13
申请号 EP19850902838 申请日期 1985.05.17
申请人 J.C. SCHUMACHER COMPANY 发明人 RIAHI, SHANTIA
分类号 H01J27/02;H01J37/08;H01J37/317;H01J49/04;(IPC1-7):H01J27/02;H01J37/18 主分类号 H01J27/02
代理机构 代理人
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