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发明名称 DOPING OF SEMICONDUCTOR WAFER BY QUICK HEAT TREATMENT OF SOLID FLAT DIFFUSION SOURCE
摘要
申请公布号 JPS6293927(A) 申请公布日期 1987.04.30
申请号 JP19860237285 申请日期 1986.10.07
申请人 VARIAN ASSOC INC 发明人 RONARUDO EE PAUERU
分类号 H01L21/22;H01L21/223;H01L21/225;H01L21/268;H01L21/3215 主分类号 H01L21/22
代理机构 代理人
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