| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Lösemittelsysteme zum Entfernen von Photoresists auf der Basis von wasserlöslichen Aminoderivaten und Propylenglykolverbindungen, bestehend aus a) 10 bis 100 Gew.-% wenigstens eines wasserlösli chen Amins der allgemeinen Formel <IMAGE> wobei R¹, R², R³, R<4> = H, Alkyl n, m = 0 bis 2 o = 1 bis 3 bedeuten und b) 0 bis 90 Gew.-% wenigstens eines wasserlöslichen Propylenglykolderivats der allgemeinen Formel <IMAGE> wobei R³, R<4> = H, Alkyl, ?-Alkyl, p = 1 bis 3 bedeuten.
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