| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR PERFORMING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION USING AXIALLY SYMMETRIC FLOW OF GAS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS6289870(A) |
申请公布日期 |
1987.04.24 |
| 申请号 |
JP19860237810 |
申请日期 |
1986.10.06 |
| 申请人 |
EPUSHIRON LTD PAATONAASHITSUPU |
发明人 |
UIIBU BEE DEBEERU;KURABUSU EFU JIENSEN;UEIN ERU JIYONSON;GEARII DABURIYUU RIADO;MAKUDONARUDO ROBINSON |
| 分类号 |
C23C16/46;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/54;C30B25/14 |
主分类号 |
C23C16/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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