| 发明名称 |
PROCEDE DE DEPOSITION DE SILICIUM PAR PLASMA |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2516097(B1) |
申请公布日期 |
1987.04.24 |
| 申请号 |
FR19820014649 |
申请日期 |
1982.08.26 |
| 申请人 |
ADVANCED SEMICONDUCTOR MATERIALS |
发明人 |
RICHARD S. ROSLER ET GEORGE M. ENGLE;ENGLE GEORGE M |
| 分类号 |
C01B33/02;C01B33/03;C23C16/24;C30B25/02;H01L21/205;(IPC1-7):C23C11/06;C30B23/08;H01L21/20 |
主分类号 |
C01B33/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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