| 发明名称 |
Apparatus and method for chemical vapor deposition using an axially symmetric gas flow |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2181460(A) |
申请公布日期 |
1987.04.23 |
| 申请号 |
GB19860023978 |
申请日期 |
1986.10.06 |
| 申请人 |
* EPSILON LP |
发明人 |
WIEBE B * DEBOER;KLAVS F * JENSEN;WAYNE L * JOHNSON;MCDONALD * ROBINSON;GARY W * READ |
| 分类号 |
C23C16/46;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/54;C30B25/14;(IPC1-7):C23C16/44 |
主分类号 |
C23C16/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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