发明名称 |
Arrangement for the detection of secondary and/or back-scattering electrons in an electron beam apparatus. |
摘要 |
In einem Elektronenstrahlgerät wird ein Primärstrahl (2) auf einem Punkt (13) einer Probe (5) gerichtet, wobei die an diesem austretenden Sekundärelektronen nach dem Durchlaufen eines elektrischen Absaugfeldes zu einem Detektor (14 bis 17) gelangen. Das Absaugfeld besteht zwischen Elektroden (21, 22), die in einer zur elektronenoptischen Achse senkrechten Ebene angeordnet sind. Ein zu diesem elektrischen Feld senkrecht stehendes Magnetfeld (23, 24) kompensiert die vom Absaugfeld auf den Primärstrahl (2) ausgeübten Kräfte und unterstützt den Absaugvorgang.
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申请公布号 |
EP0218829(A2) |
申请公布日期 |
1987.04.22 |
申请号 |
EP19860110819 |
申请日期 |
1986.08.05 |
申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT BERLIN UND MUNCHEN |
发明人 |
LISCHKE, BURKHARD, PROF. DR.;ROSE, HARALD, PROF. DR.;ZACH, JOACHIM, DIPL.-PHYS. |
分类号 |
G01N23/203;G01T1/28;H01J37/153;H01J37/244;(IPC1-7):H01J37/28;H01J37/252 |
主分类号 |
G01N23/203 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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